五、先进光刻与刻蚀结构扩展5.21 计算光刻专用硬件加速结构组件类别组件名称关键规格参数工艺/设备工作原理性能指标功能描述技术挑战技术规则材料要求精度要求制造挑战性能影响光刻仿真专用集成电路​光学邻近效应修正处理单元计算精度0.1nm， 处理能力10P OPC cell/s定制化专用集成电路设计， 7nm/5nm工艺制造将光刻仿真核心算法（如卷积， 快速傅里叶变换）固化于硬件， 实现超高能效比并行计算能效比100 TOPs/W， 为通用图形处理单元的10倍加速全芯片光学邻近效应修正和逆光刻技术中耗时的光强计算